Imagen de Amazon.com
Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
Tipo de material:
TextoEditor: New York : J. Wiley, 2005Edición: 2nd edDescripción: 757 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0471720011Tema(s): Dinámica del plasma | Peliculas delgadas -- Superficies | Ataque por plasmaClasificación LoC:QC718.5D9 | L54 2005
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Libros
|
Libros Libros | General | QC718.5D9 L54 2005 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 184591 | ||
|
Libros
|
Libros Libros | General | QC718.5D9 L54 2005 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 184627 |
Total de reservas: 0
Navegando Libros Estantes, Ubicación: Libros, Código de colección: General Cerrar el navegador de estanterías (Oculta el navegador de estanterías)
|
|
|
|
|
|
|
||
| QC718.5D5 P54 Plasma scattering of electromagnetic radiation : | QC718.5D5 P54 Plasma scattering of electromagnetic radiation : | QC718.5D5 P54 Plasma scattering of electromagnetic radiation : | QC718.5D9 L54 2005 Principles of plasma discharges and materials processing / | QC718.5D9 L54 2005 Principles of plasma discharges and materials processing / | QC718.5D9 M67 Introduction to plasma dynamics / | QC718.5E4 B47 Plasma physics and fusion plasma electrodynamics |
No hay comentarios en este titulo.